污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過(guò)濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過(guò)濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
深圳市方達(dá)研磨技術(shù)有限公司
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更新時(shí)間：2023-09-20 13:38:23瀏覽次數(shù)：192次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 環(huán)保在線所屬系列：陶瓷研磨拋光機(jī) 產(chǎn)品型號(hào)：
FD-9104PA陶瓷拋光機(jī)
1. 本設(shè)備為單面精密拋光設(shè)備，采用*的機(jī)械結(jié)構(gòu)和多種*控制方法，拋光加工效率高，運(yùn)行穩(wěn)定。
2. 整機(jī)采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，設(shè)備參數(shù)設(shè)置和操作簡(jiǎn)單方便，系統(tǒng)運(yùn)行穩(wěn)定性高。
3. 主電機(jī)采用變頻調(diào)速控制，實(shí)現(xiàn)主機(jī)軟啟動(dòng)、軟停機(jī)，降低設(shè)備運(yùn)行沖擊，減少工件損傷。
4. 工件研磨壓力采用整體氣缸加壓方式，通過(guò)電氣比例閥控制實(shí)現(xiàn)壓力的閉環(huán)控制，保證的施壓精度與穩(wěn)定性。
5. 上壓盤采用伺服馬達(dá)主動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式，在確保產(chǎn)品拋光速率的前提下保證各工位拋光加工的統(tǒng)一性。
6. 拋光盤與上壓盤都設(shè)置了冷卻水冷卻功能，在保證拋光液發(fā)揮效率的同時(shí)減少拋光盤面的變形。
| 拋光盤規(guī)格 | ?910mm |
| 工件盤直徑 | ?360mm |
| 工件盤壓力 | 30~150kg |
| 工件盤轉(zhuǎn)速 | 5·60rpm（max） |
| 主電機(jī)功率 | 7.5KW/380V |
| 壓盤電機(jī)功率 | 0.4KW/380Vx4 |
| 主電機(jī)轉(zhuǎn)速 | 100rpm（max） |
| 設(shè)備工位數(shù) | 4個(gè) |
| 設(shè)備外形尺寸 | 1200x1700x2300mm |
| 設(shè)備重量 | 2300KG |
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